Истоки современной микроэлектронной технологии.
К 1955 году была налажена технология изготовления транзисторов со сплавными и р-п-переходами. Потом появились разновидности сплавных транзисторов: дрейфовые и сплавные с диффузией.
В конце 50-х годов была разработана технология создания планарных транзисторов, конструкция которых имеет плоскую структуру. Особенность этой технологии - возможность создания множества приборов на одной подложке. Такая технология открыла путь к групповой технологии производства транзисторов и его автоматизации.
Развитие дискретной полупроводниковой техники, возможность автоматизации производства привели к интеграции. В 1960 году был предложен метод изготовления транзисторов в тонком эпитаксиальном слое, выращенном на монокристаллической подложке. Таким способом удавалось на прочной толстой подложке создать транзисторы с тонкой базой. Было предложено использовать транзисторы с тонкопленочными проводниками в пределах одной пластины. Такие транзисторы получили название интегральных, а кристаллы стали называть интегральными схемами.
Таким образом, наряду с дискретной твердотельной электроникой появилась интегральная электроника основанная на тонкопленочной групповой технологии.
Дополнительно
Холодная прокатка листов
Холодная
прокатка по сравнению с горячей имеет два больших преимущества: во-первых, она
позволяет производить листы и полосы толщиной менее 0,8-1 мм, вплоть до
нескольких микрон, что горячей прокаткой недостижимо; во-вторых, она
обеспечивает получение продукции более высокого качества по всем пока ...
Расчет релаксационного генератора на ИОУ
Разработать и рассчитать
релаксационный генератор на ИОУ
(интегральной схеме операционного
усилителя) в соответствии с данными, представленными:
·
вид генератора - мультивибратор
·
режим работы – автоколебательный
·
период следования импульсов Т, мс – 0.09
· ...